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사업분야

Business Part

MiCo

Coating Powder

세라믹 원료를 기반으로 고품질의 코팅층을 구현하기 위한 과립화 기술을 바탕으로
제작한 기능성 분말입니다.

반도체 제조 공정 장비에 많이 사용되는 Y2O3 뿐만 아니라 다양한 차세대 공정에서
필요로 하는 소재를 개발 / 적용하여 내플라즈마 특성 및 공정 특성을 향상 시켜 고객사의
차세대 기술에 대응을 할 뿐만 아니라 부품의 Life time 등을 향상 시켜는 등
고객 만족을 위한 노력을 하고 있습니다

ceramic powder top 이미지

Coating Powder 특징

Powder 종류 적용 코팅 장점

Y2O3
Fluorine 계
YAG

APS (Atmospheric Plasma Spray)
대기압 플라즈마 스프레이

반도체 부품의 플라즈마 저항 특성 부여를 통한
파티클 발생 제어 및 공정 안정화

AD (Aerosol Depostion)
에어로졸 증착

표면 고밀도화를 통한 플라즈마 저항
특성 향상 및 파티클 제어

PVD (Physical Vapor Deposition)
물리적 기상 증착

초고밀도 및 초평탄화를 통한 플라즈마 저항성 극대화,
파티클 발생 및 Seasoning Time 제어

SPS (Suspension Plasma Spray)
서스펜션 플라즈마 스프레이

강한 모재 결합력과 고밀도 코팅막 형성을 통한
파티클 발생 제어 및 공정 안정화

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MiCo Coating Powder

ceramic coating 슬라이드 이미지

Y2O3

  • 우수한 플라즈마 저항성
  • 공정 파티클 발생 제어
  • 1차 입자 및 과립 특성(크기, 밀도 etc) 제어 가능
ceramic coating 슬라이드 이미지

YAG 계

  • 우수한 플라즈마 저항성
  • YAG, YAP, YAM 결정상 제어 가능
  • 1공정 파티클 발생 제어
ceramic coating 슬라이드 이미지

Fluorine 계 (YF3/YOF)

  • 공정 가스와 물질 간 반응 최소화
  • Seasoning Time 단축
  • “O” / “F” 함량 제어 가능
ceramic coating 슬라이드 이미지

특수 코팅용 재료

  • 고밀도 코팅 구현
  • 미립 (≤ 20㎛) 분말 고 유동화
  • 다양한 재료 적용 가능
ceramic coating 슬라이드 이미지

SPS 코팅용 Slurry

  • 초고밀도 코팅 구현
  • 플라즈마 저항 극대화로 파티클 발생 제어
  • 다양한 재료 적용 가능
ceramic coating 슬라이드 이미지

PVD 코팅용 Source

  • 초고밀도 / 초평탄화 코팅 구현
  • 플라즈마 저항 극대화로 파티클 발생 제어
  • Source 및 밀도 제어 가능

Coating Powder 특성 및 장점

coating ceramic 특징 이미지
coating ceramic 특징 이미지

Y2O3

  • · 우수한 플라즈마 저항성
  • · 공정 파티클 발생 제어
  • · 1차 입자 및 과립 특성(크기, 밀도 etc) 제어 가능
coating ceramic 특징 이미지
coating ceramic 특징 이미지

YAG 계

  • · 우수한 플라즈마 저항성
  • · YAG, YAP, YAM 결정상 제어 가능
  • · 1공정 파티클 발생 제어
coating ceramic 특징 이미지
coating ceramic 특징 이미지

Fluorine 계 (YF3/YOF)

  • · 공정 가스와 물질 간 반응 최소화
  • · Seasoning Time 단축
  • · “O” / “F” 함량 제어 가능
coating ceramic 특징 이미지
coating ceramic 특징 이미지

특수 코팅용 재료

  • · 고밀도 코팅 구현
  • · 미립 (≤ 20㎛) 분말 고 유동화
  • · 다양한 재료 적용 가능
coating ceramic 특징 이미지
coating ceramic 특징 이미지

SPS 코팅용 Slurry

  • · 초고밀도 코팅 구현
  • · 플라즈마 저항 극대화로 파티클 발생 제어
  • · 다양한 재료 적용 가능
coating ceramic 특징 이미지
coating ceramic 특징 이미지

PVD 코팅용 Source

  • · 초고밀도 / 초평탄화 코팅 구현
  • · 플라즈마 저항 극대화로 파티클 발생 제어
  • · Source 및 밀도 제어 가능

Application

ceramic process 이미지

반도체 식각공정 장비용 코팅

식각공정

coating app 이미지
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