MiCo
Coating Powder
세라믹 원료를 기반으로 고품질의 코팅층을 구현하기 위한 과립화 기술을 바탕으로
제작한 기능성 분말입니다.
반도체 제조 공정 장비에 많이 사용되는 Y2O3 뿐만 아니라 다양한 차세대 공정에서
필요로 하는 소재를 개발 / 적용하여 내플라즈마 특성 및 공정 특성을 향상 시켜 고객사의
차세대 기술에 대응을 할 뿐만 아니라 부품의 Life time 등을 향상 시켜는 등
고객 만족을 위한 노력을 하고 있습니다
Coating Powder 특징
Coating Powder 특성 및 장점
Y2O3
- · 우수한 플라즈마 저항성
- · 공정 파티클 발생 제어
- · 1차 입자 및 과립 특성(크기, 밀도 etc) 제어 가능
YAG 계
- · 우수한 플라즈마 저항성
- · YAG, YAP, YAM 결정상 제어 가능
- · 1공정 파티클 발생 제어
Fluorine 계 (YF3/YOF)
- · 공정 가스와 물질 간 반응 최소화
- · Seasoning Time 단축
- · “O” / “F” 함량 제어 가능
특수 코팅용 재료
- · 고밀도 코팅 구현
- · 미립 (≤ 20㎛) 분말 고 유동화
- · 다양한 재료 적용 가능
SPS 코팅용 Slurry
- · 초고밀도 코팅 구현
- · 플라즈마 저항 극대화로 파티클 발생 제어
- · 다양한 재료 적용 가능
PVD 코팅용 Source
- · 초고밀도 / 초평탄화 코팅 구현
- · 플라즈마 저항 극대화로 파티클 발생 제어
- · Source 및 밀도 제어 가능
Application
반도체 식각공정 장비용 코팅