반도체 / MEMS 공정용 샤워헤드
  • 가스 분배 채널 : 단일 영역, 이중 영역, 다중 영역
  • 절연 소재 아노다이징, 세라믹 플라즈마 코팅 (Al2O3, Y2O3)세라믹 소결체 (SiC, Y2O3, Al2O3)
  • 적용분야 : 건식 식각 (Oxide / Poly), 증착공정
  • 적용 웨이퍼 크기 : ~ 300㎜(φ)
  • 히터 발열영역 : 단일영역, 이중영역, 다중 영역
  • 제어 가능한 온도 범위 : 0 ~ 150℃(온도조절 가능한 타입)

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